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  热设计及分析

  对于高性能光学系统,热设计和分析应该从概念设计阶段开始。利
用闭环的、参数简单的热模型进行一阶分析和灵敏度研究,弄清热传递
中传导、对流及辐射等模式,从而就可以识别合适的热管理策略。在所
有方案中,被动热控技术由于其成本低、可靠性高及简单等特点经常成
为设计的首选。

  随着热设计逐渐成熟,可以建立更为复杂的热模型,进而就能够预
i贝4一系列极端工作条件下详细的温度分布。这些高置信度的模型可以
解释许多方面的问题,其中包括:几何形状的细节、内热源(诸如电子
元件的散射)、外热源(诸如太阳和红外辐射)、热容、连接面传导性、
吸收率与辐射率、镀膜及周围表面的镜面反射系数/热扩散性、寿命起
点及终点热属性,以及热控解决方案如加热、绝缘、热管、冷凝板以及
辐射器等。通过这些分析,可以确保满足零件、组件以及系统的热设计
要求。

  除了进行零部件及系统级的热试验外,通过热一结构一光学性能的
集成分析,也可以对热管理策略进行验证和确认。

  干涉图文件是二维地图,它是基于线性延迟模型对空间变化的应力
场建模的一个近似技术旧。双折射和晶轴方向可以由光学模型中分配到
每个光学表面的琼斯矩阵推导得到。应力双折射干涉图文件最适用于平
行光线入射到非主动式建模的(nonpowered)光学元件上的情况,对于主
动式建模的镜片(powered optics)以及非平行光,可以根据工程师的判
断来评估应力对光学性能的近似影响。

 

 


 
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